-
Pasadyang Pagproseso ng Al2O3 Ceramic Wafer Chuck
Nabuo sa pamamagitan ng malamig na isostatic pressing at sininter sa ilalim ng mataas na temperatura, pagkatapos ay precision machined at pinakintab, ang mga ekstrang bahagi ng ceramic ay maaaring matugunan ang anumang mahigpit na pangangailangan ng kagamitang semiconductor dahil sa mga katangian nito ng wear resistance, corrosion resistance, mababang thermal expansion, at insulation. Ang mga seramika ay maaaring gamitin sa maraming uri ng kagamitan sa produksyon ng semiconductor na may kondisyon ng mataas na temperatura, vacuum o corrosive gas sa loob ng mahabang panahon.
Ginawa mula sa mataas na kadalisayan na alumina powder, pinoproseso sa pamamagitan ng malamig na isostatic pressing, high temperature sintering at precision finishing, maaari itong umabot sa dimension tolerance na ±0.001 mm, surface finish Ra 0.1, at temperature resistance na 1600℃.
-
ST.CERA Customized na Kagamitan sa Semiconductor na Seramik na Plato
Nabuo sa pamamagitan ng malamig na isostatic pressing at sininter sa ilalim ng mataas na temperatura, pagkatapos ay precision machined at pinakintab, ang mga ekstrang bahagi ng ceramic ay maaaring matugunan ang anumang mahigpit na pangangailangan ng kagamitang semiconductor dahil sa mga katangian nito ng wear resistance, corrosion resistance, mababang thermal expansion, at insulation. Ang mga seramika ay maaaring gamitin sa maraming uri ng kagamitan sa produksyon ng semiconductor na may kondisyon ng mataas na temperatura, vacuum o corrosive gas sa loob ng mahabang panahon.
Ginawa mula sa mataas na kadalisayan na alumina powder, pinoproseso sa pamamagitan ng malamig na isostatic pressing, high temperature sintering at precision finishing, maaari itong umabot sa dimension tolerance na ±0.001 mm, surface finish Ra 0.1, at temperature resistance na 1600℃.
-
12-Pulgadang Alumina Vacuum Chuck para sa 300mm na Pagproseso ng Wafer
Ang 12-pulgadang vacuum chuck ng St.Cera ay gawa sa 99.8% high-purity alumina (Al₂O₃) para sa 300mm wafer handling. Ang chuck ay may pinong uka sa ibabaw (lapad ng uka 0.5–1.0 mm, pitch 2–3 mm) upang matiyak ang pantay na distribusyon ng vacuum sa buong 300mm diameter. Ang pagiging patag ay pinapanatili sa loob ng 5 μm, na nagbibigay-daan sa pag-aayos ng wafer na walang warp habang dicing, paggiling sa likuran, at inspeksyon. Ang mataas na flexural strength (361 MPa) at katigasan (16 GPa) ng materyal ay ginagarantiyahan ang pangmatagalang dimensional stability kahit na sa ilalim ng paulit-ulit na vacuum cycle.
-
Mga Karamik na Bahagi para sa Kagamitan sa Semiconductor Probe
Nabuo sa pamamagitan ng malamig na isostatic pressing at sininter sa ilalim ng mataas na temperatura, pagkatapos ay precision machined at pinakintab, ang mga ekstrang bahagi ng ceramic ay maaaring matugunan ang anumang mahigpit na pangangailangan ng kagamitang semiconductor dahil sa mga katangian nito ng wear resistance, corrosion resistance, mababang thermal expansion, at insulation. Ang mga seramika ay maaaring gamitin sa maraming uri ng kagamitan sa produksyon ng semiconductor na may kondisyon ng mataas na temperatura, vacuum o corrosive gas sa loob ng mahabang panahon.
Ginawa mula sa mataas na kadalisayan na alumina powder, pinoproseso sa pamamagitan ng malamig na isostatic pressing, high temperature sintering at precision finishing, maaari itong umabot sa dimension tolerance na ±0.001 mm, surface finish Ra 0.1, at temperature resistance na 1600℃.
-
Tagadala ng Kagamitan sa Semiconductor ng Ceramic Plate
Nabuo sa pamamagitan ng malamig na isostatic pressing at sininter sa ilalim ng mataas na temperatura, pagkatapos ay precision machined at pinakintab, ang mga ekstrang bahagi ng ceramic ay maaaring matugunan ang anumang mahigpit na pangangailangan ng kagamitang semiconductor dahil sa mga katangian nito ng wear resistance, corrosion resistance, mababang thermal expansion, at insulation. Ang mga seramika ay maaaring gamitin sa maraming uri ng kagamitan sa produksyon ng semiconductor na may kondisyon ng mataas na temperatura, vacuum o corrosive gas sa loob ng mahabang panahon.
Ginawa mula sa mataas na kadalisayan na alumina powder, pinoproseso sa pamamagitan ng malamig na isostatic pressing, high temperature sintering at precision finishing, maaari itong umabot sa dimension tolerance na ±0.001 mm, surface finish Ra 0.1, at temperature resistance na 1600℃.
-
Mga Kagamitang Semiconductor at mga Bahaging Seramik
Nabuo sa pamamagitan ng malamig na isostatic pressing at sininter sa ilalim ng mataas na temperatura, pagkatapos ay precision machined at pinakintab, ang mga ekstrang bahagi ng ceramic ay maaaring matugunan ang anumang mahigpit na pangangailangan ng kagamitang semiconductor dahil sa mga katangian nito ng wear resistance, corrosion resistance, mababang thermal expansion, at insulation. Ang mga seramika ay maaaring gamitin sa maraming uri ng kagamitan sa produksyon ng semiconductor na may kondisyon ng mataas na temperatura, vacuum o corrosive gas sa loob ng mahabang panahon.
Ginawa mula sa mataas na kadalisayan na alumina powder, pinoproseso sa pamamagitan ng malamig na isostatic pressing, high temperature sintering at precision finishing, maaari itong umabot sa dimension tolerance na ±0.001 mm, surface finish Ra 0.1, at temperature resistance na 1600℃.
-
Singsing na Selyo na may Mataas na Kadalisayan na Alumina Ceramic para sa Pagbubuklod ng Silid na may Mataas na Temperatura
Ang ceramic seal ring ng St.Cera ay dinisenyo bilang alternatibo sa polymer O-rings sa matinding kapaligiran kung saan nasisira ang mga elastomer. Ginawa mula sa 99.8% high-purity alumina (Al₂O₃), ang matibay na seal ring na ito ay ginagamit sa mga aplikasyon ng static sealing — karaniwang ipinapares sa isang malambot na metal o graphite gasket — upang magbigay ng maaasahang vacuum o gas containment sa mga temperaturang hanggang 800°C at sa agresibong plasma o kemikal na kapaligiran. Ang materyal ay nag-aalok ng zero outgassing, mataas na compressive strength (pinagbabatayang flexural strength 361 MPa), at chemical inertness (lumalaban sa mga halogen, acid, at alkali maliban sa HF). Ang mga precision-lapped sealing surface (flatness ≤5 μm, surface roughness Ra ≤0.2 μm) ay nagsisiguro na hindi tumatagas ang kontak sa mga kaparehong metal o ceramic component.
-
High-Purity Alumina Chamber Focus Ring para sa Plasma Etch at CVD Systems
Ang chamber focus ring ng St.Cera ay isang kritikal na bahagi ng process kit na ginagamit sa mga kagamitan sa plasma etch, CVD, at PVD semiconductor. Ginawa mula sa 99.8% high-purity alumina (Al₂O₃), ang singsing ay nakapalibot sa gilid ng wafer upang limitahan ang plasma at i-optimize ang ion angular distribution, sa gayon ay pinapabuti ang pagkakapareho ng etch sa buong ibabaw ng wafer. Ang materyal ay nag-aalok ng pambihirang plasma resistance, mataas na dielectric strength (15×10⁶ V/m), at thermal stability hanggang 1600°C, na tinitiyak ang pangmatagalang pagiging maaasahan sa agresibong fluorine o chlorine-based na plasma environment. Ang precision-ground ID/OD at flatness (≤10 μm) ay nagbibigay-daan sa tumpak na pagpoposisyon ng gilid ng wafer, na binabawasan ang mga depekto sa gilid at pagbuo ng particle.
-
Singsing na Seramik na Alumina na may Mataas na Kadalisayan para sa mga Silid ng Proseso ng CVD / PVD
Ang ceramic ring ng St.Cera ay partikular na idinisenyo para gamitin sa mga silid ng proseso ng CVD (Chemical Vapor Deposition) at PVD (Physical Vapor Deposition). Ginawa mula sa 99.8% high-purity alumina (Al₂O₃), ang singsing na ito ay nagsisilbing chamber liner, focus ring, o bahagi ng process kit upang ikulong ang plasma at protektahan ang mga dingding ng silid mula sa erosyon. Ang materyal ay nag-aalok ng mahusay na plasma resistance, mataas na dielectric strength (15×10⁶ V/m), at thermal stability hanggang 1600°C, na tinitiyak ang mahabang buhay ng serbisyo sa agresibong fluorine-based na mga kapaligiran ng plasma. Ang tumpak na dimensional tolerances (±0.05 mm sa ID/OD) at flatness (≤10 μm) ay nagbibigay-daan sa pare-parehong pagpoposisyon ng gilid ng wafer, na nagpapabuti sa pagkakapareho ng deposition at binabawasan ang pagbuo ng particle.
-
Porous Ceramic Vacuum Chuck para sa Warped Wafer Handling
Ang porous ceramic chuck ng St.Cera ay gawa sa high-purity alumina na may pare-parehong open porosity na 30–45% at mga pore size mula 10 hanggang 100 μm. Hindi tulad ng mga conventional grooved chuck, ang porous surface ay nagbibigay ng distributed vacuum sa buong likurang bahagi ng wafer, na epektibong humahawak sa mga warped, thin, o singulated wafer nang walang edge lift-off o breakage. Pinipigilan din ng banayad na vacuum (naa-adjust sa pamamagitan ng restrictor) ang backside marking.
-
Alumina-Based Porous Ceramic Vacuum Chuck para sa Manipis na Paghawak ng Wafer
Ang porous chuck na nakabase sa alumina ng St.Cera ay gawa mula sa 99.6% high-purity na Al₂O₃ na may kontroladong open porosity na 30–45% at pare-parehong laki ng butas mula 10 hanggang 50 μm. Hindi tulad ng mga grooved chuck, ang porous surface ay nagbibigay ng distributed vacuum sa buong likurang bahagi ng wafer, na nag-aalis ng edge marking at nagbibigay-daan sa banayad na paghawak ng ultra-thin (≤100 μm) o warped wafers. Ang materyal ay nag-aalok ng flexural strength na ≥250 MPa at thermal stability hanggang 400°C sa hangin.
-
Plato ng Pamamahagi ng Alumina Gas para sa CVD/PVD Showerhead
Ang gas distribution plate (showerhead) ng St.Cera ay ginawa gamit ang precision-machined na 99.8% alumina ceramic na may mataas na kadalisayan. Nagtatampok ito ng hanay ng mga micro-hole (diametro na 0.3–1.5 mm) na nagsisiguro ng pare-parehong daloy ng gas sa ibabaw ng wafer habang isinasagawa ang mga prosesong CVD, PVD, o ALD. Ang mataas na dielectric strength (>15×10⁶ V/m) at plasma resistance ng plate ay ginagawa itong mahalaga para sa semiconductor thin-film deposition.
